Langdao Silex, FlintNano EUV lazer kaynağını tanıttı

Çinli girişim Langdao Silex, aşırı morötesi litografi (EUV) için yerli üretim bir lazer kaynağı geliştirdiğini duyurdu. Şirketin FlintNano LPP-OXXO adını verdiği sistemin, gofret pozlama testleri için uygun olduğu bildirildi.

FlintNano’nun teknik çerçevesi

FlintNano LPP-OXXO, lazerle üretilen plazma (LPP) yöntemine dayanıyor. LPP, yüksek güçlü lazerlerle plazma üreterek ileri seviye çip üretimi için gereken EUV ışınımını oluşturuyor ve süreç ASML’nin kullandığı yaklaşıma benzer şekilde çalışıyor.

Langdao Silex’in yayımladığı teknik özelliklere göre sistem, 1.000 W gücünde bir sürücü lazer kullanıyor. Sürücü lazerin tekrar oranı 1–20 kHz aralığında çalışıyor ve sistemin dönüşüm verimliliği %2’nin üzerinde.

Şirkete göre ekipman 100 saatin üzerinde kesintisiz çalışabiliyor. Bildirildiğine göre prototipin daha fazla ince ayara ihtiyacı var.

Metne göre bir ışık kaynağı geliştirmek, tam bir EUV tarayıcı üretmenin yalnızca bir parçası.

EUV aracı için tek parça

EUV litografi araçlarının Çin’e satışı yasak ve ABD hükümeti daha önce Hollanda hükümetine baskı yaparak bu gelişmiş araçların satışının durdurulmasını sağladı. Hollanda hükümeti, ABD baskısı altında 2019’da ihracatı engelledi ve ASML’nin Çin’e hiç EUV tarayıcı göndermediği belirtiliyor.

Çin’de tek bir EUV sistemi devreye alınmadı, buna karşın ASML Çinli müşterilere DUV sistemleri göndermeye devam ediyor. Çinli şirketlerin şu anda daldırmalı DUV makinelerini seri ürettiği, Shanghai Yuliangsheng Technology’nin de 193 nm dalga boyunda DUV ışığı üretmek için argon-florür (ArF) eksimer lazer geliştirdiği aktarılıyor.

Bir ışık kaynağı geliştirmek, tam bir EUV tarayıcı üretmenin yalnızca bir parçası. EUV tarayıcılar çok hassas yansıtıcı optikler, gelişmiş gofret konumlandırma mekanizmaları ve çok sayıda alt sistem arasında karmaşık entegrasyon gerektiriyor. ASML’nin üretime hazır tarayıcılarında binlerce yüksek hassasiyetli özel bileşen bulunduğu belirtiliyor.

Langdao Silex’e göre teknoloji seri üretime hazır hâle gelmeden önce 3–5 yıl daha geliştirme gerekiyor. ASML’nin EUV kaynakları 600–1.000 W aralığında. Yerli bir EUV ışık kaynağının çalışır hâle gelmesi, Çin’in ASML’nin üretime hazır tarayıcılarıyla rekabet edebilecek ekipman geliştirdiği anlamına gelmiyor.